產品描述：平面刻蝕是在兩塊平面電之間進行刻蝕，它與常見的感應耦合等離子體（ICP）不同，是通過高壓線圈產生的。我們的SCE系列鋁制反應艙等離子體系統(tǒng)是該領域新的產...

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產品描述：平面刻蝕是在兩塊平面電之間進行刻蝕，它與常見的感應耦合等離子體（ICP）不同，是通過高壓線圈產生的。我們的SCE系列鋁制反應艙等離子體系統(tǒng)是該領域新的產...

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型號/規(guī)格：ICP-500T66#$%^67#$%^135#$%^68#$

產品描述：用于太陽能電池硅片邊緣刻蝕制程，采用獨特的高密度等離子(ICP)，刻蝕速率高，全進口配置組裝。

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型號/規(guī)格：ICP-500T66#$%^67#$%^135#$%^68#$

產品描述：用于太陽能電池硅片邊緣刻蝕制程，采用獨特的高密度等離子(ICP)，刻蝕速率高，全進口配置組裝。

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產品描述：等離子刻蝕機 等離子刻蝕機，又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中常見...

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產品描述：等離子刻蝕機 等離子刻蝕機，又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中常見...

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型號/規(guī)格：AME8100

產品描述：AME-8100等離子體刻蝕機用于反應離子蝕刻氧化物，氮化物?？舍槍?"，5"或6"晶圓。 　　等離子體刻蝕機用于反應離子蝕刻氧化物，氮化物?？舍槍?"，5"或6"晶圓...

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型號/規(guī)格：AME8100

產品描述：AME-8100等離子體刻蝕機用于反應離子蝕刻氧化物，氮化物?？舍槍?"，5"或6"晶圓。 　　等離子體刻蝕機用于反應離子蝕刻氧化物，氮化物。可針對4"，5"或6"晶圓...

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